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中芯國(guó)際推出0.11μm圖像傳感器制造技術(shù)

發(fā)布時(shí)間:2008-10-30 來(lái)源:中國(guó)電子元件行業(yè)協(xié)會(huì)

公司事件:

  • 中芯國(guó)際開(kāi)發(fā)出了生產(chǎn)0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術(shù)

事件影響:

  • 利用此次開(kāi)發(fā)的工藝技術(shù)中芯國(guó)際中芯國(guó)際可以生產(chǎn)更高性能的CMOS傳感器

中國(guó)的中芯國(guó)際(SMIC)開(kāi)發(fā)出了生產(chǎn)0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術(shù)。其0.11μm工藝技術(shù)的布線層所用金屬材料既可使用鋁(Al)也可使用銅(Cu)。該公司已開(kāi)始了0.11μm工藝技術(shù)的試生產(chǎn),可采用200mm或300mm晶圓生產(chǎn)。

SMIC表示:“利用此次開(kāi)發(fā)的工藝技術(shù)可以生產(chǎn)比此前分辨率更高、噪音更低和高對(duì)比度的CMOS傳感器”

 

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